关于一个MOS管组成的电压选择电路的电路分析,请个人大侠帮忙分析一下,
来源:学生作业帮 编辑:作业帮 分类:综合作业 时间:2024/10/05 10:14:58
关于一个MOS管组成的电压选择电路的电路分析,请个人大侠帮忙分析一下,
这是一个电压选择电路,当控制脚为高电平/悬空:开通+3.3V_AUX低电平:开通+3.3V_PCIE,我不是很理解这里为什么使用两个MOS管,就是Q5/Q7和Q3/Q4为什么两个MOS都是反着接的,还有,D19和D20肖特基二极管是什么作用呀.
这是一个电压选择电路,当控制脚为高电平/悬空:开通+3.3V_AUX低电平:开通+3.3V_PCIE,我不是很理解这里为什么使用两个MOS管,就是Q5/Q7和Q3/Q4为什么两个MOS都是反着接的,还有,D19和D20肖特基二极管是什么作用呀.
个人观点.
首先MOS管是四端器件,栅源漏衬,一般源衬短接.
在集成电路制造中,NMOS制作在P型衬底上,P衬上做N阱,而PMOS做在N阱上的,
如果只有一个PMOS管(比如左边的电路),
那么当控制引脚是高电平时,左边电路导通,现在假设只有Q5,电源通过Q5的源端再经过沟道区到达漏端然后输出.
也就是说,此时漏端是高电平,而漏端是P型半导体区域,衬底是N型的,这即是说漏到N阱有一条低阻通路(正向pn结,很小的电压即可导通),一旦N阱接到什么低电平的地方,立马会出现大的电流,那就完蛋啦.
如果在串联一个PMOS,注意第二个PMOS是反向的,现在我们从电源开始走一遍.
首先是电源,然后来到第一个PMOS的衬,P+(表示重掺杂)半导体区域,然后来到第一个PMOS的源,P区域,再经过第一个的栅来到第一个PMOS的漏端,还是P区域.接下来来到第二个PMOS‘漏’(其实这种说法不对但是更易于理解),这个也是P区域,那么第二个PMOS的‘漏’是不是可以和第一个的漏合并咯,都是P区域半导体嘛.再下来到第二个MOS的栅再到第二个MOS的‘源’,然后来到第二个的衬,P+区域,而这个P+区域接的是高电位.也就是说电荷只会在每个P区域之间交换,不会无聊的去克服势垒到达N阱的N区域的.这样避免了大规模漏电.也就是说输出端只输出高电平而不输出大的电流.在电路上讲输出阻抗很较大,这样就不会影响下一级电路的设计了,这是大部分电路的理想要求哦
至于肖特基二极管,应该是用来钳位的吧,保证输出不会高于某个电压值.比如钳位电压是1.5V,那么选中左边的时候,输出是1.5V而不是3.3V
.只是个人这么觉得,
首先MOS管是四端器件,栅源漏衬,一般源衬短接.
在集成电路制造中,NMOS制作在P型衬底上,P衬上做N阱,而PMOS做在N阱上的,
如果只有一个PMOS管(比如左边的电路),
那么当控制引脚是高电平时,左边电路导通,现在假设只有Q5,电源通过Q5的源端再经过沟道区到达漏端然后输出.
也就是说,此时漏端是高电平,而漏端是P型半导体区域,衬底是N型的,这即是说漏到N阱有一条低阻通路(正向pn结,很小的电压即可导通),一旦N阱接到什么低电平的地方,立马会出现大的电流,那就完蛋啦.
如果在串联一个PMOS,注意第二个PMOS是反向的,现在我们从电源开始走一遍.
首先是电源,然后来到第一个PMOS的衬,P+(表示重掺杂)半导体区域,然后来到第一个PMOS的源,P区域,再经过第一个的栅来到第一个PMOS的漏端,还是P区域.接下来来到第二个PMOS‘漏’(其实这种说法不对但是更易于理解),这个也是P区域,那么第二个PMOS的‘漏’是不是可以和第一个的漏合并咯,都是P区域半导体嘛.再下来到第二个MOS的栅再到第二个MOS的‘源’,然后来到第二个的衬,P+区域,而这个P+区域接的是高电位.也就是说电荷只会在每个P区域之间交换,不会无聊的去克服势垒到达N阱的N区域的.这样避免了大规模漏电.也就是说输出端只输出高电平而不输出大的电流.在电路上讲输出阻抗很较大,这样就不会影响下一级电路的设计了,这是大部分电路的理想要求哦
至于肖特基二极管,应该是用来钳位的吧,保证输出不会高于某个电压值.比如钳位电压是1.5V,那么选中左边的时候,输出是1.5V而不是3.3V
.只是个人这么觉得,
关于一个MOS管组成的电压选择电路的电路分析,请个人大侠帮忙分析一下,
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