太阳能电池片等离子体化学气相沉积法（PECVD）中的工艺问题!

来源：学生作业帮编辑：作业帮分类：物理作业时间：2024/07/08 21:47:57

太阳能电池片等离子体化学气相沉积法（PECVD）中的工艺问题!
1,温度对硅片的影响!
2,时间对硅片的影响?
3,硅烷对硅片的影响?
4,氨气对硅片的影响?
5,RF功率与脉冲对硅片的影响?
如果硅片发白怎么办,发红怎么办?

四、去磷硅玻璃该工艺用于太阳能电池片生产制造过程中,通过化学腐蚀法也PECVD即等离子增强型化学气相沉积.它的技术原理是利用低温等离子体作能量源,

谁知道"等离子体辅助化学气相沉积（PECVD)英文全称是什么? 磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别? 有没有GS400-2型等离子体增强化学气相沉积设备? PECVD等离子化学气象沉积原理是什么? 请问薄膜太阳能电池用的镀膜（PECVD）设备是什么? 化学气相沉积法由CH4制金刚石薄膜的反应原理请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用? CVD（化学气相沉积）的原理及应用是什么 CVD（化学气相沉积）镀膜,如为宝石镀膜,国内有这样的厂家做吗? 请问太阳能电池片制造工艺中,什么是浆料湿重? 多晶硅太阳能电池片扩散工艺电阻调试原理谁能给个单晶硅太阳能电池片制造工艺