SF6是一种优良的气体绝缘材料,分子结构中只存在S-F键.发生反应的热化学方程式为:S(s)+3F2(g)=SF6(g)
来源:学生作业帮 编辑:作业帮 分类:化学作业 时间:2024/07/13 16:48:50
SF6是一种优良的气体绝缘材料,分子结构中只存在S-F键.发生反应的热化学方程式为:S(s)+3F2(g)=SF6(g)△H=-1220kJ/mol.已知:1mol S(s)转化为气态硫原子吸收能量280kJ,断裂1mol F-F 键需吸收的能量为160kJ,则断裂1mol S-F 键需吸收的能量为( )
A. 330 kJ
B. 276.67 kJ
C. 130 kJ
D. 76.67 kJ
A. 330 kJ
B. 276.67 kJ
C. 130 kJ
D. 76.67 kJ
S(s)+3F2(g)=SF6(g)△H=-1220kJ/mol,断裂1mol S-F 键需吸收的能量设为x,
得到-1220kJ=280KJ+160kJ×3-6X
X=330kJ,故选A.
得到-1220kJ=280KJ+160kJ×3-6X
X=330kJ,故选A.
sf6是一种优良的绝缘气体
下列各组热化学方程式中,化学反应的△H前者大于后者的是( ) ① C(s)+O2(g)=CO2(g) △H1 C(s)+
根据热化学方程式:S(s)+O2(g)=SO2(g)△H=-297.23kJ/mol分析下列说法中正确的是( )
在写热化学方程式中,需要写气体符号和沉淀符号吗(我说的不是g和s,是箭头)?要写反应条件吗?
晶体硅在氧气中燃烧的热化学方程式为Si(s)+O2(g)=SiO2(s); =
晶体硅在氧气中燃烧的热化学方程式为Si(s)+O2(g)=SiO2 △H=-989.2kJ/mol
晶体硅在氧气中燃烧的热化学方程式为Si(s)+O2(g)=SiO2 △H=-989.2kJ/mol,Si-Si键能是17
sf6电器中sf6气体的纯度要求?
将气体A.B置于容积为2L的密闭容器中,发生如下反映:3A(g)+B(g)≈2C(g)+2D(g),反应进行到10s末,
根据热化学方程式:S(l)+O2(g)═SO2(g)△H=-293.23kJ•mol-1,分析下列说法正确的是( )
2g碳与适量水蒸气反应生成CO H2,需吸收21.88kj,此反应的热化学方程式韦C(S)+H2O(g)=CO(g)+h
(10分)高炉炼铁过程中发生的主要反应为:1/3Fe 2 O 3 (s)+CO(g) 2/3Fe(s)+CO 2 (g)