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不同的PECVD装备有什么不同的工艺

来源:学生作业帮 编辑:作业帮 分类:综合作业 时间:2024/11/06 04:24:44
不同的PECVD装备有什么不同的工艺
你这里所说的“不同”,是不是指管式和板式的差别呢?
管式PECVD的工艺原理是通过低压气氛的射频放电产生等离子体,辅助以加热系统,从而在wafer表面沉积镀膜;
而板式PECVD则是通过石英管保护的铜管,将微波导入工艺腔室,从而加热气体等离子,最后实现在wafer表面沉积薄膜的目的.
再问: 我想问的是不同的设备像板式、管式、磁控等分别对应什么工艺?