化学题：超细氮化铝粉末被广泛应用于大规模集成电路生产等领域.其制取原理为：Al2O3＋N2＋3C 2AlN＋3CO

来源：学生作业帮编辑：作业帮分类：化学作业时间：2024/11/06 00:28:45

化学题：超细氮化铝粉末被广泛应用于大规模集成电路生产等领域.其制取原理为：Al2O3＋N2＋3C 2AlN＋3CO
超细氮化铝粉末被广泛应用于大规模集成电路生产等领域.其制取原理为：Al2O3＋N2＋3C 2AlN＋3CO由于反应不完全,氮化铝产品中往往含有炭和氧化铝杂质.为测定该产品中有关成分的含量,进行了实验:
1)称取10g样品,将其加入过量NAOH浓溶液中共热并蒸干,AIN跟NAOH溶液反应生成NaAlO2,并放出氨气3.36L（标准状况）该样品中AIN的质量分数为
2）取10.00g样品置于反应器中,通入2.016L（标准状况）O2,在高温下充分反应后测得气体的密度为1.34g•L－1（已折算成标准状况,AIN不跟O2反应）.该样品中含杂质炭多少克?
要详细解答.

有方程,答案见附图

化学题：超细氮化铝粉末被广泛应用于大规模集成电路生产等领域.其制取原理为：Al2O3＋N2＋3C 2AlN＋3CO 超细氮化铝粉末被广泛应用于大规模集成电路生产等领域.其制取原理为：Al2O3＋N2＋3C 2AlN＋3CO. 超细氮化铝粉末被广泛应用于大规模集成电路生产领域.其制取原理为Al2O3+N2+3C═2AlN+3CO由于反应不完全 (1/2)氮化铝〔AlN,Al和N的相对原子质量分别为27和14〕广泛应用于电子、陶瓷等工业领域.在一定条件下... （2011•常州模拟）氮化铝（AlN）具有耐高温、抗冲击、导热性好等优良性质，被广泛用于大规模集成电路生产、陶瓷工业等领氮化铝（AlN）具有耐高温、抗冲击、导热性好等优良性质，被广泛应用于电子工业、陶瓷工业等领域.在一定条件下，氮化铝可通过 Al2O3＋N2＋3C 2AlN＋3CO 化学方程式中氧化剂和还原剂的物质的量之比是多少电子转移数目的计算Al2O3+N2+3C=高温=2AlN+3CO每生成1mol的AlN需要转移多少mol电子（2011•西安模拟）氮化铝（AlN）是一种新型无机材料，广泛应用于集成电路生产领域．某氮化铝中含有碳或氧化铝杂质，现用用双线桥法分析下列氧化还原反应 Al2O3+N2+3C=2AlN+3CO NaH+H2O=NaOH+H2 （2011•泉州一模）氮化铝是一种新型的无机非金属材料，被广泛应用于集成电路生产领域．在氮气流中由氧化铝与焦炭在电炉中加其发明为电力广泛应用于生活领域提高人类社会生活质量