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硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数
来源:学生作业帮 编辑:
作业帮
分类:
综合作业
时间:2024/07/15 00:55:09
硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数
通入氩气,使得真空度达到靶材可以起辉的真空度,然后通入一定量的氧气,不过氧气不能太多,否则靶材会毒化的.
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