(2014•宿迁模拟)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2
来源:学生作业帮 编辑:作业帮 分类:化学作业 时间:2024/07/05 09:44:22
(2014•宿迁模拟)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF.下列有关该反应的说法正确的是( )
A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C.若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C.若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
A.只有N元素的化合价发生变化,NF3既是氧化剂又是还原剂,故A错误;
B.NF3生成NO,被还原,NF3生成HNO3,被氧化,还原剂与氧化剂的物质的量之比为1:2,故B错误;
C.生成0.2molHNO3,转移的电子的物质的量为0.2mol×(5-3)=0.4mol,故C错误;
D.生成的NO易与空气中氧气反应生成红棕色气体二氧化氮,故D正确.
故选D.
B.NF3生成NO,被还原,NF3生成HNO3,被氧化,还原剂与氧化剂的物质的量之比为1:2,故B错误;
C.生成0.2molHNO3,转移的电子的物质的量为0.2mol×(5-3)=0.4mol,故C错误;
D.生成的NO易与空气中氧气反应生成红棕色气体二氧化氮,故D正确.
故选D.
(2014•宿迁模拟)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+
三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体.它无色、无臭,在潮湿的空气中能发生下列反应:3NF3+5H2O
三氟化氮(NF3)是一种新型电子材料,它在潮湿的空气中与水蒸气能发生氧化还原反应
三氟化氮(NF3)是一种无色无味的气体,它由氨(NH3)和氟(F2)在一定条件下直接反应得到,4NH3+
在微电子工业中,Nh3·H2O可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境的化学方程式
NF3气体在多高温度下能液化(压力1.0Mpa)
NF3+H2O反应的化学方程式,生成物是HF NO HNO3
等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量 刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m?
钢铁在潮湿空气中发生电化学腐蚀时,正极发生的主要反应是( )
四氟化碳在等离子体刻蚀中对人的危害有哪些?
(2014•宿迁模拟)下列关于细胞中化合物的叙述,正确的是( )