三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+

来源：学生作业帮编辑：作业帮分类：化学作业时间：2024/11/08 18:11:35

三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5H₂O=2NO+HNO₃+9HF.下列有关该反应的说法正确的是（　　）
A. NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂
B. 还原剂与氧化剂的物质的量之比为2：1
C. 若生成0.2 mol HNO₃，则转移0.2 mol电子
D. NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

A．只有N元素的化合价发生变化，NF₃既是氧化剂又是还原剂，故A错误；
B．NF₃生成NO，被还原，NF₃生成HNO₃，被氧化，还原剂与氧化剂的物质的量之比为1：2，故B错误；
C．生成0.2molHNO₃，转移的电子的物质的量为0.2mol×（5-3）=0.4mol，故C错误；
D．生成的NO易与空气中氧气反应生成红棕色气体二氧化氮，故D正确．
故选D．

三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+ （2014•宿迁模拟）三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2 三氟化氮（NF3）是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体.它无色、无臭，在潮湿的空气中能发生下列反应：3NF3+5H2O 三氟化氮（NF3）是一种新型电子材料,它在潮湿的空气中与水蒸气能发生氧化还原反应 NF3+H2O反应的化学方程式,生成物是HF NO HNO3 三氟化氮(NF3)是一种无色无味的气体,它由氨(NH3)和氟(F2)在一定条件下直接反应得到,4NH3＋在微电子工业中,Nh3·H2O可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境的化学方程式 NF3＋H2O → NO＋HNO3＋HF还原剂在3NO2+H2O==2HNO3+NO（气体符号）的反应中,被氧化与被还原的分子个数之比为? 在反应3 NO2+ H2O=2 HNO3+ NO中,参加反应的原子化合价升高总数是( ) 在反应5NH4NO3=2HNO3+4N2+9H2O中,发生氧化反应和发生还原反应的氮原子个数比是铁在潮湿环境中会发生氧化反应,但是我想问的是,其中有H2O参与反应吗?